我的位置：
徠卡 MICA 全場景顯微成像分析平臺 共聚焦
徠卡 MICA 全場景顯微成像分析平臺 共聚焦
徠卡MICA全場景顯微成像分析平臺是一款集成了寬場成像和共聚焦成像技術的先進顯微鏡系統。該平臺通過創新的設計和技術，為科研工作者提供了全新的顯微成像體驗。
- 01
更新日期
2024-06-20 - 02
廠商性質
經銷商 - 03
瀏覽量
1417
產品分類
產品中心/ PRODUCTS CENTER
更新日期
2024-06-20廠商性質
經銷商瀏覽量
1417
更新日期
2024-06-20廠商性質
經銷商瀏覽量
539
更新日期
2024-06-20廠商性質
經銷商瀏覽量
572關于我們
公司簡介榮譽資質資料下載產品展示
奧林巴斯顯微鏡CX23現貨供應 奧林巴斯顯微鏡CX33 全國包郵 奧林巴斯顯微鏡CX43 全國包郵 奧林巴斯顯微鏡CX23 全國包郵 奧林巴斯 CKX53倒置顯微鏡 現貨服務與支持
技術文章新聞中心聯系我們
聯系方式在線留言版權所有 © 2025 北京瑞科中儀科技有限公司 備案號：京ICP備11027741號-9
技術支持：化工儀器網 管理登陸 sitemap.xml
電話：TEL
地址：ADDRESS
掃碼關注我們
在線咨詢
返回頂部